研发中心

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研发中心概况

新广益电子研发中心成立于2008年,是公司核心技术创新与产品开发的重要基地。中心总面积超过2,000㎡,设有精密涂布实验室、压敏胶合成实验室、UV固化实验室和材料分析测试室等多个专业实验室。

中心拥有一支由博士、硕士领衔的高素质研发团队,研发人员占比超过30%,在功能性材料领域积累了丰富的技术经验。中心先后承担多项国家级、省级科技计划项目,拥有自主知识产权专利50余项。

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[ 研发中心实景照片 ]

核心技术

四大核心技术体系,构筑公司技术创新护城河

精密涂布技术

采用微凹版涂布、狭缝挤出涂布、多层同时涂布等多种精密涂布工艺,涂布精度可达微米级别。可实现对基材表面功能性涂层的均匀、稳定涂覆,广泛适用于保护膜、光学膜等功能性薄膜产品的生产。

压敏胶合成技术

具备丙烯酸系、有机硅系、聚氨酯系等多种压敏胶体系的自主研发与合成能力。通过分子结构设计、聚合工艺优化,实现对胶体粘着力、内聚力、初粘力等性能的精准调控,满足不同应用场景需求。

无溶剂UV固化技术

自主研发无溶剂UV固化配方体系,在紫外光照射下实现涂层快速固化,生产效率高、能耗低、零VOC排放。该技术已成功应用于电子胶带、光学胶粘剂等产品,兼具环保与高性能优势。

多层共挤技术

拥有多层共挤流延和吹塑工艺技术,可将多种不同特性的树脂材料在挤出过程中复合成型,实现单层薄膜无法达到的综合性能。产品广泛应用于新能源电池绝缘膜等高端领域。

研发设备

配备国际先进的研发与实验设备,为技术创新提供硬件保障

精密涂布实验线 宽幅300mm · 精度±1μm
流变性能测试仪 旋转/振荡双模式
热分析仪(TGA/DSC) -50℃ ~ 800℃
电子显微镜(SEM) 最大放大倍数 ×100,000
万能材料试验机 拉力/剥离/穿刺测试
UV固化实验平台 波长365/395nm · 功率可调